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购入CVD化学气相沉积系统,用于TaC、HfC等物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺研究
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设备名称:PECVD管式炉 这种PECVD设备适用于需要快速加热和冷却的石墨烯生长工艺和CVD实验。
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设备名称:1200℃高温CVD设备 伦敦某研究所订购的cvd设备已经完成发货。 该cvd设备主要由滑道管式炉、真空泵、三通质子流量计等组成,最高温度可达1200℃。 该套设备具有升温速度快、控制系统智能化、性价比高等优点。
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