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石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

石墨稀、碳纳米管材料CVD设备

Model：KJ-T1050-CVD-LZ

Introduction：该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

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Introduction

该设备主要用于石墨稀、納米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

Features

  • 温场均衡
  • 微电脑PID控温
  • 安全保护

炉膛采用高纯度氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、节能等优点

采用PID程序化温控系统，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制

具有安全互锁、故障诊断和异常报警功能

Specifications

技术参数

产品名称 石墨稀、碳纳米管材料CVD设备
产品型号 KJ-T1050-CVD-LZ
炉型结构 卧式、单管或多管系统自动控制
适应晶片尺寸 50--200mm
取片方式 自动悬臂石英推拉舟，配合手动取、放片
最高温度 1050℃
极限真空度 1Pa
抽速 抽至极限真空时间15min左右
更多规格可根据需求定制

Configurable Options

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