Products

Home > Products > CVD & PECVD System > Chemical Vapor Deposition System

化学气相沉积系统

化学气相沉积系统

Model:KJ-TCVD1200-S80LK1

Introduction:适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

Introduction

适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

Features

  • 智能控温
  • 气密性好
  • 上开启式结构

智能PID控制,多段可编程控温和自整定功能,多段"时间—温度曲线"任意可设

可重复拆装的不锈钢密封法兰。拆装方便,密封性好,可抽真空通多种气氛

双层壳体上开启结构,取放炉管方便,装有风冷系统,炉子外壳温度保持安全范围

Specifications

技术参数

产品名称 化学气相沉积系统
产品型号 KJ-TCVD1200-S80LK1
管式炉部分
炉膛模式 开启式
显示模式 LED
炉膛材料 氧化铝耐火纤维
加热元件 合金电阻丝
极限温度 1200℃
工作温度 ≤1100℃
升温速率 0-10℃/min
加热温区 单温区
温区长度 440mm(其他尺寸可按客户需求定制)
炉管材质 高纯石英
炉管外径 80mm(其他尺寸可按客户需求定制)
炉管长度约 1000mm(其他尺寸可按客户需求定制)
密封方式 可重复拆装的不锈钢密封法兰。拆装方便,密封性好
控制模式 智能PID控制,具有多段可编程控温和自整定功能
温度曲线 多段"时间—温度曲线"任意可设
报警:有超温和断偶报警
测温元件 N型热电偶
供气系统
流 量 计 三路质量流量计(量程可根据需要选择)
A路量程 氮气 0~1000SCCM
B路量程 甲烷 0~500SCCM
C路量程 乙烯 0~1000SCCM
混气 内含一个精密混气罐
真空系统(含不锈钢波纹管和相关连接配件)
真空泵抽速 2L/S抽速的机械旋片泵、波纹管及相关连接件,极限真空可实现10pa
数显真空计 数显电阻真空计集成在可移动供气系统箱体上
测量路数 1路
显示方式 LED数字显示

Configurable Options

Recommended Cases

  • 西北某大学 | CVD设备
    西北某大学 | CVD设备 西北某大学 | CVD设备

    More
  • 某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场
    某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场 某铝业集团 | 定制气氛炉客户使用现场

    More
  • 宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用
    宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用 宁夏某石墨烯公司钟罩气氛炉已投入使用

    More
  • 浙江某化工企业三温区旋转管式炉
    浙江某化工企业三温区旋转管式炉 浙江某化工企业三温区旋转管式炉

    More

Custom Service Process

Custom Service Process