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Introduction
KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S石墨烯生长炉是一种特殊的CVD系统，是专门为在金属箔（像铜箔、铝箔等）上生长薄膜而设计，广泛应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究上，特别适用于碳纳米管、碳纳米线、石墨烯的生长。
Features
- 成品质量好
- 沉积效果好
- 智能多段PID可编程
PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜
采用双层壳体结构和宇电控温仪表，能进行30段程序控温，移相触发、可控硅控制
Specifications
技术参数
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产品名称 |
1200℃石墨烯生长炉 |
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产品型号 |
KJ-1200T-S6012LK1-4Z5S |
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管式炉 |
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加热区长度 |
440mm（其他尺寸可根据客户需求定制） |
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工作温度 |
≤1100℃ |
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最高温度 |
1200℃ |
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炉管尺寸 |
Φ60×1440mm（其他尺寸可根据客户需求定制） |
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等离子射频电源 |
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输出功率 |
5 ～500W ± 1% . |
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真空泵机组（双极旋片泵） |
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真空度 |
10-3torr |
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波纹管 |
KFD25 快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连. |
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质量流量计 |
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四通道控制 |
精度0.02% 、数字显示、自动控制 |
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水冷系统 |
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水冷法兰要求 |
水流量 >= 10L/M ，配有专业水冷机组 |
Temperature Range
Door Opening Style
Process Applications
Heating Elements & Temp Zones
Chamber Size
