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Introduction
该PECVD管式炉度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速升降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜，陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
Features
- 更好的沉积效率
- 所需温度更低
- 成品质量好
PECVD比普通CVD具有更高的化学气相沉积速率、更好的均匀性、一致性和稳定性
PECVD对于化学气相沉积需要比普通CVD更低的温度
具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等优点
Specifications
技术参数
| 产品名称 | 1200℃PECVD系统 | |
| 产品型号 | KJ-PECVD-1200-50*300-F3 | |
| 加热系统 | 显示 | LED |
| 最高温度 | 1200℃ | |
| 长期工作温度 | ≤1100℃ | |
| 升温速率 | 0~10℃/min | |
| 温区长度 | 300mm（其他尺寸可根据客户需求定制） | |
| 加热元件 | 硅钼棒 | |
| 热电偶 | N型 | |
| 温度均匀性 | ±1℃ | |
| 炉管尺寸 | 直径60 x 长度1200mm（其他尺寸可根据客户需求定制） | |
| 材质：氧化铝 | ||
| 温度控制 | 通过可控硅功率控制进行PID自动控制 | |
| 加热过程 | 30步可编程 | |
| 最大工作压力 | 0.02MPa | |
| 真空系统 | 旋片泵 | 冷态极限真空10Pa |
| 真空计 | 数显真空计 | |
| 真空法兰 | 带阀门和针头的不锈钢真空法兰 | |
| 质量流量计 | 流量范围 | CO2（流量范围：0-200 sccm CH4（流量范围：0-200 sccm） N2 流量范围（流量范围：0-200 sccm） |
| 等离子射频发生器 | 输出功率：0 -300W可调，±1%稳定性 射频频率：13.56 MHz ±0.005% 稳定性 |
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Temperature Range
Door Opening Style
Process Applications
Heating Elements & Temp Zones
Chamber Size
