精密陶瓷真空烧结炉

Model：KJ-V1200-LV

Introduction：主要用于主要用于精密陶瓷、特种陶瓷材料、钨钼难熔金属、金属基粉末冶金制品等的烧结和热处理，如光学膜才，钨钼坩埚，单晶硅、多晶硅，红宝石等的真空烧结。被广泛应用于热传导、热机械、敏感传感器、光学领域、医疗领域及新能源等领域。

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Introduction

主要用于主要用于精密陶瓷、特种陶瓷材料、钨钼难熔金属、金属基粉末冶金制品等的烧结和热处理，如光学膜才，钨钼坩埚，单晶硅、多晶硅，红宝石等的真空烧结。被广泛应用于热传导、热机械、敏感传感器、光学领域、医疗领域及新能源等领域。

优化设计的中间隔热门，定位准确，动作重复性好，保证加热室与冷却室之间不串气

配置高性能的保温材料，保温效果好，降低电能消耗

触摸屏操作，可显示和监控设备运行状态，可调用、编辑和存储工艺程序库，存储和导出数据

Temperature Range
1100°C/1400°C/1700°C
Door Opening Style
Side/ Top/ Bottom/ Bottom-lift/ Bogie
Process Applications
Sintering / Brazing / Heat Treatment
Heating Elements & Temp Zones
Resistance wire/ SiC/ MoSi₂
Single/ Multi-zones
Chamber Size
Standard / Custom